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摘要 'iy*^A `Y
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在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中，晶片檢測系統(tǒng)用于檢查晶片上的缺陷并找到它們的位置。為保證微結(jié)構(gòu)的圖像解析度，檢測系統(tǒng)常使用一個高NA的物鏡，工作在紫外波長范圍。作為一個例子，模擬了一個完整的晶片檢測系統(tǒng)，包括高NA聚焦效應(yīng)和光與微結(jié)構(gòu)的互作用，并演示了圖像的形成。 Q=BZ N]g2
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Y"rM 建模任務(wù) GRMiQa OF%B[h&
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