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    [求助]磁控濺射靶的問(wèn)題 [復(fù)制鏈接]

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    離線(xiàn)mainbomb
     
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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2007-03-11
    — 本帖被 cyqdesign 從 光學(xué)資源 移動(dòng)到本區(qū)(2007-04-06) —
    就我所用的磁控濺射儀，磁控濺射的靶在用一段時(shí)間之后，在靶邊緣的特定區(qū)域總是會(huì)發(fā)藍(lán)，尤其是NiCr合金靶、Pb靶和TiW的靶，請(qǐng)問(wèn)是怎么回事？還有濺射鍍膜的均勻性不好，有什么可以改善的方法嗎？ ~#/  
    請(qǐng)大俠不吝賜教 ！非常感謝
     
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    離線(xiàn)wolfliu
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    只看該作者 1樓 發(fā)表于: 2007-04-05
    你使用的是什么磁控濺射設(shè)備？
    離線(xiàn)wolfliu
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    只看該作者 2樓 發(fā)表于: 2007-04-10
    很可能是污染所致，比如輕微的氧化。
    離線(xiàn)荷塘月色
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    只看該作者 3樓 發(fā)表于: 2007-07-02
    靶溫度過(guò)高，冷卻效果不好。
    離線(xiàn)luochan
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    只看該作者 4樓 發(fā)表于: 2007-08-10
    請(qǐng)問(wèn)您所使用的靶材主要用于哪方面的用途啊？
    離線(xiàn)jianfei88
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    只看該作者 5樓 發(fā)表于: 2007-08-10
    真空度！
    離線(xiàn)青桃
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    只看該作者 6樓 發(fā)表于: 2007-08-20
    兩端遮擋,表面輕微氧化
    離線(xiàn)dianke
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    只看該作者 7樓 發(fā)表于: 2007-09-03
    請(qǐng)問(wèn) 是什么設(shè)備
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