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在本示例中，模擬了衰減相移掩模。 該掩模將線/空間圖案成像到光刻膠中。 掩模的單元格如下圖所示： 2I*
7?`
( : 4N#p
 T 6*na H ,|<2wn#q 掩模的基板被具有兩個開口的吸收材料所覆蓋。在其中一個開口的下方，位于相移區(qū)域。 K?8{ y
ryg1o=1v/ 由于這個例子是所謂的一維掩模(線/空間模式)，在xy平面中有一個2D仿真域。在源文件中設置3DTo2D = yes標簽，以執(zhí)行用戶自定義傳入方向的自動轉換。啟用此標記后，就可以描述傳入區(qū)域，就好像光軸與Z軸重合一樣。這允許統(tǒng)一設置2D和3D的掩模模擬項目。由于光線從基板下方進入，光線的傳輸方向為+Z方向。 $h"tg9L^)
Ep>3%{V 相位分布如下圖所示： [I^>ji0V
& gnE"
 R'`q0MoN1
0GK<l 相移區(qū)域的影響清晰可見，導致開口上方光束的180度相位差。同時光場的S和P分量也顯示出相位差： 0&mOu #l
~Pq1@N>n
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