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摘要: `@?l{ .H7"nt^ 目前,FRED溫度敏感性的評(píng)價(jià)可使用腳本語(yǔ)言實(shí)現(xiàn)。本文演示了一個(gè)雙折射材料的折射率隨溫度變化而變化腳本。 f
IQ$a> mOGcv_L 雙折射簡(jiǎn)介: JY9Hqf Wj.)wr! 雙折射(birefringence)是指一條入射光線產(chǎn)生兩條折射光線的現(xiàn)象。 c{|soc[# <gf:QX! F~W*"i+EZ <X|"5/h 尋常光線(o光線)——遵守折射定律,且在入射面內(nèi) ; <MT_zET 非常光線(e光線)——不遵守折射定律,一般不在入射面內(nèi); kRSu6r9 光軸—晶體中存在的一個(gè)特殊方向,光在晶體中沿此方向行進(jìn)時(shí),不產(chǎn)生雙折射現(xiàn)象,對(duì)于單軸晶體,則o,e光的傳播方向相同,且其傳播速度也相同。 r{>tTJFD(: /~J#c= 步驟1:創(chuàng)建雙折射材料KDP(磷酸二氫鉀晶體),命名為KDP Baseline。在樹(shù)形文件夾中選擇Materials>Create a New Material>Sampled Birefringent and/or Optically Active Material,按照如圖所示的數(shù)據(jù)輸入如下數(shù)值(KDP材料的創(chuàng)建方法請(qǐng)見(jiàn)本文后的備注)。 .LnXKRd{ qZ`@Ro Mgcq'{[~Y= J>!p^|S{
'(^p$=3|@D `j_R ?mY >@h0@N 注意:axis選項(xiàng)為軸向方向,在OXY平面為45°角。 Gxm+5q 8{%/!ylJz 步驟2:復(fù)制KDP BaseLine到Materials樹(shù)形文件夾下,具體操作為鼠標(biāo)左鍵選中KDPBaseline,右鍵選擇Copy,并在Materilas 下選擇paste,并命名為KDP。 t8]u#bx"? fm&l0
1m}'Y@I "Q2[A]4E 步驟3:創(chuàng)建一個(gè)折射率隨溫度變化20k后的折射率變化模型,我們利用FRED軟件自帶的VB腳本實(shí)現(xiàn)此功能。在樹(shù)形文件夾選擇Embedded Scripts,右鍵選擇Create a New Embedded Scrips,注意刪除腳本編輯器里面的所有內(nèi)容,然后粘貼如下的程序到此編輯器中。 6S"bW)O 'qQDM_+ gTO% L_)?5IOJ$ 4\Y=*X (:Bo'q
S 3w!oJB 綠色字體為標(biāo)注項(xiàng),不參與程序運(yùn)算,復(fù)制此腳本到軟件下: tQo"$ JN}
F_YZV)q!W (t<i?>p (Clf]\_II ~NU~jmT2 步驟4:在腳本編輯器中按下Ctrl +B運(yùn)行腳本,最后我們觀測(cè)KDP材料的折射率變化。或退出編輯器,在樹(shù)形文件夾選擇Run an Embedded Scripts...下運(yùn)行腳本。 f=}u;^ rAP+nh ans mUcHsCszH I`Rxijz
4zJ9bF4 我們以0.46微米波長(zhǎng)處為例 <pK;D 溫度變化20k后,波長(zhǎng)在0.46nm處, *J1pxZ^ O光折射率值計(jì)算方法:KDP=n KDPBaselineordinary + cteO*delT=1.51738+20*4*10-4=1.51818; nfRo:@ E光折射率計(jì)算方法:KDP=n KDPBaselineextraordinary + cteE*delT=1.47475+20*4*10-4=1.47575; d@8_?G} 4.H!rkMM 總結(jié): h>bmHQ /*rMveT 此腳本演示了溫度變化引起的折射率變化,同樣此腳本可進(jìn)行如下擴(kuò)展: c{||l+B 1. 對(duì)于不是晶體的材料同樣適用; {'>X6: 2. 可得到連續(xù)溫度變化時(shí),折射率變化; 7@+0E2' 3. 溫度變化對(duì)點(diǎn)列圖和照度圖的影響; ?em
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