建模目的：如何將矩形光柵界面和轉(zhuǎn)變點(diǎn)列界面(Transition Point List Inerface)進(jìn)行組合，以構(gòu)建復(fù)雜結(jié)構(gòu)光柵，并進(jìn)行近場分析和內(nèi)部場分析 1J<-P9 vk+ 工具箱：光柵工具箱 J ^t=.-a| 關(guān)鍵詞：矩形光柵界面 轉(zhuǎn)變點(diǎn)列界面 近場分析 內(nèi)部場分析 e3(0L I 組合光柵結(jié)構(gòu)參數(shù)： L^ +0K}eD 圖1：光柵參數(shù)示意圖 *w@>zkBl
使用VirtualLab光柵工具箱進(jìn)行建模 (:[><-h.
=8 tdu B 1) 操作如下圖(1)(2)：解決方案(Solutions)/光柵工具箱(Grating Toolbox)/二維光柵仿真(2D Grating Simulations)/自定義光柵光路流程圖(General Grating Light Path Diagram)，生成光柵光路圖, 如下圖(3) `w~ 9/sty (1)
kMI\GQW (2)
czHO)uQ?d` (3) wv?`3:co
圖2：使用VirtualLab光柵工具箱進(jìn)行建模步驟1)示意圖 -lAA,}&+!
2) 雙擊
，進(jìn)入光柵編輯窗口(Edit General Grating 2D)/結(jié)構(gòu)與功能子窗口(Structure/Function)，確定基板材料和厚度，并選擇堆棧界面。 co~TQpy^
Gjv'$O2_ 圖3：使用VirtualLab光柵工具箱進(jìn)行建模步驟2)示意圖 Z?v9ub~ %
3) 進(jìn)入堆棧界面，即堆棧編輯窗口(Edit)，通過添加(Add)按鈕依次添加平面(Plane Interface)，矩形光柵界面(Rectarngular Grating Interface)以及轉(zhuǎn)變點(diǎn)列界面(Transition Point List Interface)以構(gòu)建矩形組合光柵。 Y Y]LK%-
6qH o$#iT (1)
kxf'_Nzy 
(2) H;$w^Tr
(3)
圖4：使用VirtualLab光柵工具箱進(jìn)行建模步驟3)示意圖 +;*])N%q
4) 點(diǎn)擊
，進(jìn)入矩形光柵編輯窗口(Edit Rectangular Grating Interface)，輸入光柵一的結(jié)構(gòu)參數(shù)，并將其位置橫向移動(dòng)(Lateral Shift)1 μm，如下圖所示 "%}PV O!
k+ s <;{ 圖5：使用VirtualLab光柵工具箱進(jìn)行建模步驟4)示意圖 f$H"|Mb e
5) 點(diǎn)擊
，進(jìn)入轉(zhuǎn)變點(diǎn)列界面(Transition Point List Interface)編輯窗口(Edit Transition Point List Interface)，輸入光柵二和光柵三兩種光柵結(jié)構(gòu)參數(shù)： "CZ`hx1|^
b!`:|!7r' (1) 通過點(diǎn)擊添加數(shù)據(jù)(Add Datum)增加轉(zhuǎn)變點(diǎn)(transition points)，并給該點(diǎn)對(duì)應(yīng)的橫向位置(x-Position)和高度(Height)賦值，以形成所需轉(zhuǎn)變點(diǎn)序列。 'z!I#Y!Y
lGcHfW)Y (2) 按照?qǐng)D6(2)所示設(shè)置所有轉(zhuǎn)變點(diǎn)，然后將插值方法(Interpolation Method)設(shè)置為常量區(qū)間(Constant Interval)。將橫向區(qū)域上限(Upper Limit)設(shè)置為2 μm，并設(shè)置大小與形狀(Size and Shape) 為2 μm x 2μm 長方形(Rectangular)。 y X S/3_A{
{ ! FrI@ (3) 進(jìn)入周期化標(biāo)簽(Periodization)，選擇使用周期化設(shè)置(Use Periodization)，并將周期設(shè)置為2 μm x 2μm。可觀察到z-方向，即高度方向最小值(Boundary Minimum)為-800 nm。 ]-ZD;kOr Qs,LK(1 (1)
sAnH\AFm my04>6 j0 
(2)
(3)
圖6：使用VirtualLab光柵工具箱進(jìn)行建模步驟5)示意圖 G LE `ba
6) 將平面與矩形光柵界面距離設(shè)置為0，矩形光柵界面（光柵一）與轉(zhuǎn)變點(diǎn)列界面（光柵二和三）之間的距離設(shè)置為800 nm，并將堆棧周期(Stack Period)設(shè)置為2 μm，如下圖所示： <p<gx*%
1p{\jCi, 2 圖7：使用VirtualLab光柵工具箱進(jìn)行建模步驟6)示意圖 Kh5:+n_X
7) 設(shè)置光學(xué)界面后的介質(zhì)類型(Subsequent Medium)，點(diǎn)擊
，進(jìn)入材料庫，分別將Cr和TiO2介質(zhì)分別用于矩形光柵界面（光柵一）和轉(zhuǎn)變點(diǎn)列光柵界面（光柵二和光柵三）之后，設(shè)置方法如下圖。 u' r ;-|7
DU[UGJg (1)
- 6 
(2)
圖8：使用VirtualLab光柵工具箱進(jìn)行建模步驟7)示意圖
p*dez! 8) 在堆棧界面觀察組合光柵的剖面圖以及點(diǎn)擊
觀察其3D視圖
长丰县|
临澧县|
旬阳县|
北海市|
手游|
宁德市|
池州市|
丹棱县|
老河口市|
陆河县|
册亨县|
抚州市|
仁怀市|
靖宇县|
雷山县|
涟水县|
松溪县|
阿拉尔市|
进贤县|
息烽县|
水富县|
云霄县|
理塘县|
东安县|
鲁山县|
剑河县|
郓城县|
红河县|
高密市|
武胜县|
军事|
高碑店市|
青龙|
金门县|
张家界市|
吴堡县|
峨眉山市|
淮安市|
吉水县|
务川|
军事|
