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內(nèi)容簡介： B7r={P!0
;AMbo`YK[ 1.在VirtualLab中如何進行結構設計； #-$\f(+<
MDn+K#p 2.在VirtualLab中如何導入和導出加工數(shù)據(jù)。 PhF.\W b
np3 $bqm 結構設計 rvO7e cR" 1) 點擊 ，打開示例文件Sample_PhaseDistribution.ca2 t
I}@1
Y2709LWmP ?&#z3c$} 2) 該示例文件包含處處振幅為1的純粹的相位分布，默認為振幅視圖. 點擊 ，將默認的振幅視圖轉(zhuǎn)換為相位視圖，點擊“結構設計(Structure Design)”開始設計可產(chǎn)生該相位分布的對應結構 i(R&Q;{E^
9 l) .L L <YX )am'\y 3) 進入(基于薄元近似)的純相位透射結構設計系統(tǒng)窗口 ;AyE(|U+
4a3Xz,[(a 目標(Target)標簽，可以選擇將設計好的結構設計元件放在新的LPD中還是已有的LPD中 B;Pws$J 59K%bz5t 光學設置(Optical Setup)標簽，在此標簽中選擇模式為透明板的高度輪廓(Height Profile of Transparent Plate)，并可選擇基板介質(zhì)(Substrate Medium)和元件周圍的介質(zhì)(Surrounding Medium)，同時可以確定基板的厚度(Thickness of Substrate)以及中心波長（Wavelength）。 :K&>
]-h$CJSY :N03$Tvl 光學界面參數(shù)(Interface Parameters)標簽，在相位展開模式(Unwrapping Mode)中選擇不展開(None)，以及不進行強制分層(Enforce Quantization),即不產(chǎn)生離散界面，并選擇像素化的高度輪廓（最臨近點插值）[Pixelated Height Profile (Nearest Neighbor Interpolation)]對取樣光學界面進行插值 "#bL/b'{ C"l_78  k8fvg4
!u~h.DrvZ 8 tq6.%\ [pMJ9
d$ 導出加工數(shù)據(jù) YT!QY@qw
0tbximmDb 1) 在LPD中雙擊生成的元件，可見設計好的結構是以雙界面元件(Double Interface Component，簡稱DIC)的形式保存的，而高度輪廓以取樣光學界面（Sampled interface）的形式保存，點擊編輯(Edit) me] O
7^$PauAv U 7mA~t2E 2) 進入取樣光學界面的編輯(Edit Sampled Interface)窗口，在結構(Structure)標簽上，選擇臨近點插值(Nearest Neighbor Interpolation)方法進行高度輪廓插值，并進行3D預覽 }p-<+sFo
|jB]5ciT 0CXh|AU 3) 在取樣光學界面預覽(Preview of Sampled Interface)中，點擊鼠標右鍵，選擇精度(Accuracy)，將界面取樣精度設置為5，提高取樣光學界面的顯示精度 VB6EM|bphl VsS. \ 1 |
