|
|
請(qǐng)問(wèn)FRED這套軟件針對(duì)一般光源側(cè)入光式的背光模塊是否可以詳細(xì)仿真光源透過(guò)LGP上面油墨印刷后的光源軌跡(整個(gè)面的光均勻度)？LGP上會(huì)印刷光學(xué)級(jí)油墨點(diǎn)(Pattern)，我們會(huì)控制Pattern直徑的大小，來(lái)控制整個(gè)背光模塊的均勻性，是否有側(cè)入光式的范例(LGP Pattern 光學(xué)仿真軌跡)？ I K Dh)Zm
KXga {]G:
Ans:可以，光學(xué)仿真軟件-FRED可以進(jìn)行側(cè)入光式的背光模塊仿真分析。 ),+u>Os&
"0l7%@z*)q
如下圖，并且可利用ARRAY的方法快速的布置重復(fù)式網(wǎng)點(diǎn) STQ~mFs" {Ng HH]]O 9 mH+Ol#(
v D4<G{
在FRED可以設(shè)定散射表面，而油墨本身就是一種散射表面，如下 s$;IR
c5!6
t%>x}b"2T
4\ EvJg@Z.
Ol.
rjz9
光線(xiàn)追跡： ]%/a'[
@V#
wYt
$ *^E
也可以加上BEF片的模擬 b'~IFNt*^ J*CfG;Y:
mdD9Q
N01
模擬結(jié)果 @IwVR
|
