深紫外光刻、極紫外光刻和先進(jìn)光源等現(xiàn)代光學(xué)工程需求牽引先進(jìn)光學(xué)制造技術(shù)持續(xù)發(fā)展，要求超光滑光學(xué)元件表面粗糙度達(dá)到原子級水平以及表面全頻段面形誤差達(dá)到RMS(Root Mean Square)亞納米量級甚至幾十皮米，推動超光滑光學(xué)元件制造要求不斷逼近物理極限。目前，對于如何實現(xiàn)上述超高精度要求的超光滑加工技術(shù)及裝備仍然存在技術(shù)挑戰(zhàn)。尤其對如何實現(xiàn)柱面，橢球面，超環(huán)面等復(fù)雜曲面的原子量級超光滑加工仍是國內(nèi)外前沿研究方向。彈性發(fā)射加工技術(shù)是一種去除函數(shù)穩(wěn)定，超低亞表面缺陷，面向原子級的超光滑加工方法，可以作為加工上述精度要求光學(xué)元件的手段。本文總結(jié)了彈性發(fā)射加工技術(shù)的國內(nèi)外研究現(xiàn)狀及最新進(jìn)展，歸納了彈性發(fā)射加工技術(shù)的原理，包含流體特性、拋光顆粒運動特性和化學(xué)特性，彈性發(fā)射加工裝備，影響彈性發(fā)射加工技術(shù)表面粗糙度提升和材料去除效率的因素，分析了彈性發(fā)射加工技術(shù)面臨的問題，展望了未來的發(fā)展方向，期望為彈性發(fā)射加工技術(shù)進(jìn)一步發(fā)展和應(yīng)用提供一定的參考。
