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只看樓主正序閱讀樓主發(fā)表于: 2021-10-09

摘要

干涉測(cè)量法是光學(xué)計(jì)量學(xué)的重要技術(shù)。它被廣泛用于例如，表面輪廓、缺陷、高精度的機(jī)械和熱變形。作為一個(gè)典型示例，在VirtualLab Fusion中借助非序列場(chǎng)追跡，構(gòu)建了具有相干激光光源的Mach Zehnder干涉儀。證明了光學(xué)元件的傾斜和移位如何影響干涉條紋圖案。

建模任務(wù)

元件傾斜引起的干涉條紋

元件移動(dòng)引起的干涉條紋 ZT^PL3j+
Q45rP4mQ


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