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摘要 TJ:B_F*bSk
' L*nC
T; 光學(xué)各向異性，也被稱為雙折射，是產(chǎn)生各種光學(xué)現(xiàn)象及其相關(guān)應(yīng)用的原因。VirtualLab Fusion提供了一種快速和嚴(yán)格的場跟蹤分析算法，該算法應(yīng)用于S矩陣求解器，并工作在k域。在本應(yīng)用案例中，介紹了各向異性介質(zhì)的基本配置。 |g5B==KI hcw)qB,s
uC3o@qGW< cxTP4\T\E 目錄中的各向異性介質(zhì) dOm#NSJVd 5R v6+ d
 IT,TSs/Y
y.AF90Q>) 定義各向異性介質(zhì) YfC 1.8 雙軸晶體由三個方向的主折射率定義； $XFiH ~GI 單軸晶體由o折射率和e折射率定義; 5!ll
#/ {` 一般各向異性介質(zhì)可以通過直接定義介電常數(shù)張量建立。 rp sq.n EDR;" G(N 7$(>Z^ Em 各向異性介質(zhì)預(yù)覽 $73j*@EQA {:&t;5qz^ f>)k<-<yj
預(yù)配置晶體 6#xP[hlR[
q$EicH}k8 VitualLab Fusion提供了一系列預(yù)設(shè)的晶體介質(zhì)，可以從介質(zhì)(Media)目錄中訪問。用戶還可以在目錄中導(dǎo)入和導(dǎo)出自定義的介質(zhì)。 Epm\ =s
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