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    [求助]PC硬化基材上鍍ITO膜，100度高溫環(huán)測ITO膜裂 [復制鏈接]

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    離線fanrongwei11
     
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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2021-11-25
    PC基底硬化后進行加霍爾離子源輔助熱鍍（100°C-200°C）ITO膜，氧分壓在2.2-2Pa，鍍完也都有冷卻1小時以上，但鍍完100℃烘烤一小時后ITO膜均出現(xiàn)了開裂，也試過了不加溫和不加離子源輔助，但鍍產(chǎn)品的光電性能太差了，方阻太大透過太小，100℃烘烤后倒是不膜裂了，請教下各位大神，如何進行工藝改善？
     
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    離線ouyuu
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    只看該作者 1樓 發(fā)表于: 2021-12-24
    溫度太高了吧。霍爾源本來就有加熱作用，可以適當減少一點鍍膜的溫度。 K]Q1VfeL=  
    這個條件要慢慢抓，因為離子源電子槍對基板都有加熱作用。 %|By ?i  
    而且PC用鹵素燈照射比較好（鍍膜面加熱效果比較好）
    離線fanrongwei11
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    只看該作者 2樓 發(fā)表于: 2022-01-03
    多謝大神的專業(yè)指導，不過我們的鍍膜機是上加熱，加熱絲加熱的，接下來我會試著向這個參數(shù)方向調試的，希望能調試出合格的工藝。
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    只看該作者 3樓 發(fā)表于: 2022-06-23
    學習學習
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    只看該作者 4樓 發(fā)表于: 2022-08-31
    試試降低離子源能量
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