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    [技術(shù)]用于AR/MR的光波導(dǎo)足跡分析 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2022-03-17
    摘要 R*l3 zn>  
    b#W(&b^q  
    用于增強(qiáng)或混合現(xiàn)實(shí)應(yīng)用的任何類(lèi)型的光導(dǎo)系統(tǒng),其設(shè)計(jì)過(guò)程中的一個(gè)主要部分是用于輸入耦合器、輸出耦合器和出瞳擴(kuò)展器光柵區(qū)域的配置。為此,對(duì)光傳播以及發(fā)生的光柵相互作用進(jìn)行快速而簡(jiǎn)單的概述非常有幫助:足跡分析。借助足跡和光柵分析工具,VirtualLab提供了一個(gè)強(qiáng)大的工具,可在此過(guò)程中為光學(xué)工程師提供支持。在本文檔中,討論了這個(gè)多功能工具的選項(xiàng)和功能。 D zdKBJT