從20世紀(jì)30年代開始,
光學(xué)薄膜逐漸被廣泛應(yīng)用于日常生活、工業(yè)、天文學(xué)、軍事、宇航、光通信等領(lǐng)域,在國民經(jīng)濟(jì)和國防建設(shè)中起到了重大作用,因而得到了科學(xué)技術(shù)工作者的日益重視。而今新興技術(shù)的發(fā)展對薄膜技術(shù)不斷提出新的要求,又進(jìn)一步促使了光學(xué)薄膜技術(shù)的蓬勃發(fā)展。所以近年來,對光學(xué)薄膜的研究及其應(yīng)用一直是非常活躍的課題。
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= {+@bZ}57 一、光學(xué)薄膜的制備方法 &/Q0 o-Ga3i 8 在光學(xué)薄膜發(fā)展的歷程中,各種先進(jìn)的薄膜制備技術(shù)不斷應(yīng)用到光學(xué)薄膜制備的技術(shù)中。這些技術(shù)不僅大大拓寬了光學(xué)薄膜可以利用的材料范圍,而且極大地改進(jìn)了光學(xué)薄膜的性能和功能,進(jìn)而給光學(xué)薄膜提供了更為寬廣深遠(yuǎn)的發(fā)展空間。下面介紹幾種常見的光學(xué)薄膜制備方法。
NG6& :4! Q6r7.pk"SU 1.物理氣相沉積法
)sT> i L~KM=[cn 物理氣相沉積法簡單地說,在真空條件下,采用物理方法,將材料源—固體或液體表面氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子,并通過低壓氣體(或等離子體)過程,在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)。 發(fā)展到目前,物理氣相沉積技術(shù)不僅可沉積金屬膜、合金膜、還可以沉積化合物、陶瓷、
半導(dǎo)體、聚合物膜等。之所以選擇高真空環(huán)境是因?yàn)楸∧げ牧显诔练e的過程中不會與空氣中的活潑氣體反應(yīng),以及蒸汽分子在真空環(huán)境中不會與氣體分子碰撞,而是直接地到達(dá)基片。在實(shí)際薄膜沉積的過程中,需要控制的工藝
參數(shù)非常多,通常涉及到真空技術(shù)、材料科學(xué)、精密機(jī)械制造、光電技術(shù)、計(jì)算機(jī)技術(shù)、自動(dòng)控制技術(shù)等領(lǐng)域。
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