從20世紀(jì)30年代開始,
光學(xué)薄膜逐漸被廣泛應(yīng)用于日常生活、工業(yè)、天文學(xué)、軍事、宇航、光通信等領(lǐng)域,在國民經(jīng)濟(jì)和國防建設(shè)中起到了重大作用,因而得到了科學(xué)技術(shù)工作者的日益重視。而今新興技術(shù)的發(fā)展對薄膜技術(shù)不斷提出新的要求,又進(jìn)一步促使了光學(xué)薄膜技術(shù)的蓬勃發(fā)展。所以近年來,對光學(xué)薄膜的研究及其應(yīng)用一直是非常活躍的課題。
rrG}; A :OA;vp~$x 一、光學(xué)薄膜的制備方法 D"IxQ2}k uF[~YJ> 在光學(xué)薄膜發(fā)展的歷程中,各種先進(jìn)的薄膜制備技術(shù)不斷應(yīng)用到光學(xué)薄膜制備的技術(shù)中。這些技術(shù)不僅大大拓寬了光學(xué)薄膜可以利用的材料范圍,而且極大地改進(jìn)了光學(xué)薄膜的性能和功能,進(jìn)而給光學(xué)薄膜提供了更為寬廣深遠(yuǎn)的發(fā)展空間。下面介紹幾種常見的光學(xué)薄膜制備方法。
R%`fd *g '#jZ` 1.物理氣相沉積法
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