等離子體加工技術是近年來發(fā)展起來的先進光學制造技術，具有快速緩解或去除傳統(tǒng)光學加工方法導致的表面/亞表面損傷，以及高效、高精度和高分辨率修整光學面形的優(yōu)勢。從等離子體光學加工基本原理出發(fā)，基于等離子體激發(fā)頻率與特征對發(fā)生器進行了簡要敘述；進一步對各研究機構在等離子體加工技術涉及的射流特性、界面物化反應、損傷去除機理、去除函數(shù)、加工熱效應和工藝定位等關鍵技術研究內(nèi)容及成果進行分析，并對等離子體的新型光學加工技術進行介紹。隨著研究的不斷深入，構建多物理場和化學反應綜合作用下的等離子體加工模型，揭示表面等離子體特性分布與去除函數(shù)的內(nèi)在聯(lián)系，從而建立準確的去除函數(shù)模型，是提高修形精度的發(fā)展方向，研究熱效應控制方法和補償策略在降低由熱效應帶來的修形誤差方面起到了重要作用。
