熱紅外
材料成像通常是指3~5um的中紅外(MWIR)成像和8~10um的遠(yuǎn)紅外(LWIR)成像。在這些波段中,關(guān)注的是熱源,而不是可見(jiàn)光。熱紅外成像有許多不同應(yīng)用,如非破壞性測(cè)試、紅外照相機(jī)可以拍攝設(shè)備的過(guò)熱點(diǎn)或者建筑物熱量流失位置、在醫(yī)學(xué)領(lǐng)域可測(cè)局部體表溫度的差異、在快速查找核電廠冷卻
系統(tǒng)的熱泄,以及安全防護(hù)等。
i4mP*RwC 可見(jiàn)光系統(tǒng)有許多玻璃類型可以使用,但只有極其有限的材料可以有效地用于MWIR和LWIR波段。圖18.107給出了比較常用的紅外透射材料的透過(guò)率圖。這些數(shù)據(jù)包括表面的反射損失,因此,在應(yīng)用高效增透膜后會(huì)產(chǎn)生相當(dāng)高的透射比。只有極其有限的玻璃材料類型可有效地用于MWIR和LWIR波段。表18.9中列出了比較常用的常用熱紅外
光學(xué)材料及它們的主要特性。阿貝常數(shù)V的定義為 (n1λ-1)/(n1λ-nHλ),式中, nCλ 為中心
波長(zhǎng)的折射率,n1λ為短波長(zhǎng)折射率,nHλ為長(zhǎng)波長(zhǎng)折射率。
[`'K.-?# e?:1wU 常用熱紅外紅外材料有以下幾種:
pzb`M'Z?C *RFBLCt (1)鍺材料:
=nv/
r rW+}3] !D/ 鍺材料有兩個(gè)很重要的
參數(shù):折射率和dn/dt 。鍺的折射率略大于4.0,這意味著淺曲面是合理的,易于降低相差,對(duì)設(shè)計(jì)是有利的。參數(shù)dn/dt是折射率歲溫度的變化。鍺的dn/dt是0.000369C。這是一個(gè)很大的值,普通玻璃的 dn/dt=0.000360C。這會(huì)引起隨溫度變化的大的焦移,通常需要某種無(wú)熱化技術(shù)(焦點(diǎn)相對(duì)溫度進(jìn)行補(bǔ)償)。鍺是最普通的紅外材料,可用于LWIR波段和MWIR波段。在LWIR波段,它是消色差雙
透鏡中的“冕牌”或正透鏡;在MWIR中,它是消色差雙透鏡中的“火石”或負(fù)透鏡。這是源于其在兩個(gè)波段中色散特性的差異。在MWIR波段,鍺很接近它的低吸收波段,因此它的折射率變化很快,進(jìn)而導(dǎo)致較大的色散。這使它適宜作為消色差雙透鏡中的負(fù)光焦度元件。
c"P:p%\m&u 鍺是一種晶體材料,以單晶或多晶方式生成。根據(jù)生長(zhǎng)過(guò)程,單晶鍺比多晶鍺更昂貴。多晶鍺的折射率不夠均勻,主要是由顆粒邊界的雜質(zhì)造成的,這些雜質(zhì)會(huì)影響成像到FPA的像質(zhì)。因此,單晶鍺稱為首選。在高溫下,鍺材料變得有吸收性,200C時(shí)透射比接近零。
_% i!LyG 單晶鍺的折射率不均勻系數(shù)為0.00005~0.0001,而多晶鍺為0.0001~0.00015。對(duì)于光學(xué)用途,通常以Ώ.cm為單位指定鍺的電阻系數(shù),整個(gè)毛坯的電阻系數(shù)為5~40 Ώ.cm 一般是可以接受的。圖18.109顯示了典型的鍺毛坯,右側(cè)有一塊多晶區(qū)域。請(qǐng)注意,單晶區(qū)域內(nèi)電阻系數(shù)表現(xiàn)正常而且沿徑向緩慢變化,而多晶區(qū)的電阻系數(shù)則變化迅速。如果用一個(gè)合適的紅外照相機(jī)來(lái)觀察材料,會(huì)看到奇異的類似于蜘蛛網(wǎng)的回旋狀圖像,這種現(xiàn)象主要集中在顆粒邊界。這源于邊界處受到的誘導(dǎo)的雜質(zhì)。硅和一些其他晶體材料的不足之一是脆而易碎。
@ssT$#)$! $Y8iT<nP (2)硅材料
w{ Pl mp8Zb&Ggb 硅是與鍺很類似的晶體材料。它主要被用于3~5um的MWIR波段,其在8~12um的LWIR波段存在吸收。硅的折射率比鍺略低,但它仍然足夠大,有利于
像差的控制。另外,硅的色散也相對(duì)較低。硅可以被金剛石車削。
!e}4>!L,(^ (3)硫化鋅
#lF 2qw !*o{xq 用熱壓制成的硫化鋅能夠?qū)梢?jiàn)光透明。透明硫化鋅可用于制造從可見(jiàn)光到LWIR波段的多
光譜窗口和透鏡。硫化鋅是常用于MWIR和LWIR波段的材料。它一般呈現(xiàn)銹黃色,對(duì)可見(jiàn)光半透明。生產(chǎn)硫化鋅的最普通過(guò)程被稱為化學(xué)汽相沉淀。
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