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報名 | Zemax 和 Lumerical 工作流程第二部分:從微觀到宏觀的光學仿真

發(fā)布:ueotek 2022-08-05 15:07 閱讀:1149
在這次網(wǎng)絡研討會中,我們將研究 Ansys 光學工具組合如何為超表面或超透鏡的設計提供一個完整的工作流。這些革命性的超薄光學元件可用于操縱可見光和紅外波段的光,用于許多應用,包括智能手機攝像頭、AR/MR、3D傳感和人臉識別。由于超表面的亞波長特性,使用電磁場求解器(Ansys Lumerical FDTD/RCWA)的組合來準確仿真超表面的相位和場輪廓至關重要,然后再結合光線追跡(Zemax OpticStudio)將其優(yōu)化至需求的鏡頭規(guī)格。 fH!=Zb_{8  
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作為仿真領域的領導者,Ansys 致力于提供解決方案以加快分析速度并緩解光學設計工作流程中的挑戰(zhàn)。8月17日,Ansys 將推出『Zemax和Lumerical工作流程:從微觀到宏觀的光學仿真(第2部分)』網(wǎng)絡研討會,將重點介紹 Zemax OpticStudio 和 Ansys Lumerical 之間相互聯(lián)動的工具,幫助工程師實現(xiàn)從微觀到宏觀光學系統(tǒng)的仿真設計,從而有效地設計制作創(chuàng)新光學系統(tǒng),歡迎預約參會。
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