俄羅斯科學(xué)院:2028年研發(fā)出光刻機(jī),可生產(chǎn)7nm芯片
據(jù)俄羅斯下諾夫哥羅德策略發(fā)展機(jī)構(gòu)公文,俄羅斯科學(xué)院下諾夫哥羅德應(yīng)用物理研究所 (IPF RAS) 正在開(kāi)發(fā)俄羅斯首套半導(dǎo)體光刻設(shè)備,并對(duì)外夸下海口:這套光刻機(jī)能夠使用 7nm 生產(chǎn)芯片,可于 2028 年全面投產(chǎn)。 Центр управления реализацией Стратегии развития Нижегородской области Проектный офис 據(jù)介紹,他們計(jì)劃在六年內(nèi)制作出光刻機(jī)的工業(yè)原型,首先要在 2024 年開(kāi)發(fā)一臺(tái) alpha 機(jī)器。這一階段的重點(diǎn)不在于其工作或解決的高速性,而在于所有系統(tǒng)的全面性。 |





