據(jù)報道，華為周二公布了一項(xiàng)新專利，展示了一種《反射鏡、光刻裝置及其控制方法》，而這種方法便能夠解決相干光因形成固定的干涉圖樣而無法勻光的問題，在極紫外光的光刻裝置基礎(chǔ)上進(jìn)行了優(yōu)化，進(jìn)而達(dá)到勻光的目的。 u|i.6:/=  
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專利名稱：反射鏡、光刻裝置及其控制方法 BlMc<k  
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