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ouyuu:鍍膜前延長離子源清洗的時間,增加離子源清洗的能量 \(Nx)F 使用鹵素?zé)艉婵炯訜岬?0度左右 #9}1Lo> PC第一層用氧化鋁 (2023-03-18 23:35) +@fEw
xzaxd:你用的是什么設(shè)備? (2023-03-17 15:57) _-{=Z=?6}
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jzdxzw:第一層不用二氧化硅試試呢 ,&O&h2= (2023-03-16 09:05) //$^~}wt
sosjinyan:現(xiàn)有工藝什么也不變,鍍完金屬鋁。 測反射率和牢固度。 .MxMBrM (2023-03-15 15:46) ;Qlb].td
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