對(duì)于現(xiàn)代愈發(fā)復(fù)雜的工藝檢測,諸如
半導(dǎo)體、電子封裝及
光學(xué)加工等產(chǎn)業(yè)中,由于表面微觀輪廓結(jié)構(gòu)的準(zhǔn)確性決定著產(chǎn)品的功能和效能,所以不管是拋光表面還是粗糙表面的工件(諸如半導(dǎo)體硅片及器件、
薄膜厚度、光學(xué)器件表面、其他
材料分析及微表面研究),都需要測量斷差高度、粗糙度、薄膜厚度及平整度、體積、線寬等。
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