《光學(xué)光刻和極紫外光刻》是一本最新的光刻技術(shù)專著，內(nèi)容涉及該領(lǐng)域的各個重要方面。在介紹光刻技術(shù)應(yīng)用上，涵蓋了全面又豐富的內(nèi)容；在論述光刻技術(shù)的物理機制和數(shù)學(xué)模型時，采用了完整而不繁瑣的方法，增加了可讀性。本書在系統(tǒng)地闡述了光學(xué)光刻技術(shù)的基本內(nèi)容后，還專門開辟章節(jié)，介紹了最先進的極紫外光刻技術(shù)的特點和難點，揭示了極紫外光刻的技術(shù)奧秘。本書具有全面、完整、翔實和新穎的特點，它凝聚了作者三十多年光刻領(lǐng)域科研和教學(xué)的精華。 m1tc="j  
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