由薄的分層介質(zhì)構(gòu)成的,通過界面?zhèn)鞑ス馐囊活惞鈱W(xué)介質(zhì)材料。光學(xué)薄膜的應(yīng)用始于20世紀30年代。現(xiàn)代,光學(xué)薄膜已廣泛用于光學(xué)和光電子技術(shù)領(lǐng)域,制造各種光學(xué)儀器。
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光學(xué)薄膜的特點是:表面光滑,膜層之間的界面呈幾何分割;膜層的折射率在界面上可以發(fā)生躍變,但在膜層內(nèi)是連續(xù)的;可以是透明介質(zhì),也可以是吸收介質(zhì);可以是法向均勻的,也可以是法向不均勻的。實際應(yīng)用的薄膜要比理想薄膜復(fù)雜得多。這是因為:制備時,薄膜的光學(xué)性質(zhì)和物理性質(zhì)偏離大塊材料,其表面和界面是粗糙的,從而導(dǎo)致光束的漫散射;膜層之間的相互滲透形成擴散界面;由于膜層的生長、結(jié)構(gòu)、應(yīng)力等原因,形成了薄膜的各向異性;膜層具有復(fù)雜的時間效應(yīng)。
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