離子源清洗和退膜出來都是干凈的，但是到鍍碳膜后。出來的模具表面都有2到4個(gè)點(diǎn)臟污。 rb]?"lizi  
測(cè)試過鍍膜500秒以下出來的是很好的，1000秒以上出來基本都有幾個(gè)點(diǎn)。過濾濾網(wǎng)重新噴砂換過還是如此。真空度偶爾浮動(dòng)不是馬上恢復(fù)。抽真空時(shí)間很長(zhǎng)懷疑真空有問題， Pk`3sfz  
Bm+Ca:p%  
請(qǐng)問一下造成上面的問題有哪些原因呢。

加  YKWQAZWSX

麻點(diǎn)原因太多了。 W@D./Th  
1，你的工藝要講清楚，某些鍍膜材料本身容易噴濺，噴濺的時(shí)候會(huì)有真空波動(dòng)。 V+t's*9o3  
2，如果用離子源輔助，中和不足的情況下，會(huì)吸附鍍膜材料的小顆粒到鍍膜傘去。 wJh/tb=$o  
3，坩堝某些部位漏（冷卻水或者空氣都有可能），會(huì)造成氣流將小顆粒吹到傘上。 k +Cwnp  
4，POLYCOLD化霜太快，會(huì)將盤管上的臟物爆到傘上去。 ==EB\>g|  
你情況說的越具體，得到的答復(fù)針對(duì)性越高。否則都只能泛泛而談。