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- 注冊(cè)時(shí)間2020-06-19
- 最后登錄2025-10-22
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xd4~[n\hm 內(nèi)容簡(jiǎn)介 9!dG Xq Macleod軟件自帶的用戶手冊(cè)功能全面，其介紹涵蓋了軟件的方方面面，能夠使用戶快速的了解和熟悉軟件的基本操作。然而，為了順應(yīng)目前薄膜行業(yè)的需求，急需一本能夠契合軟件設(shè)計(jì)和實(shí)際加工需要的專業(yè)書籍，以能夠幫助薄膜領(lǐng)域的同行高效的完成相關(guān)工作，因此，我們特別推出了《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)技術(shù)》。 fUq
#mkq} 《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)技術(shù)》（原著第二版）是世界著名光學(xué)薄膜專家Macleod先生40多年豐富工作經(jīng)驗(yàn)的總結(jié)，結(jié)合當(dāng)前市場(chǎng)占有率極高的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)與分析軟件Essential Macleod，其內(nèi)容豐富，實(shí)用性強(qiáng)。書中不僅有成熟的光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)、計(jì)算公式和分析方法，還有關(guān)于光學(xué)薄膜技術(shù)討論和解決方案以及全面考慮了薄膜的設(shè)計(jì)、分析、制造等各方面問題，如第8章中40個(gè)經(jīng)典案例分析。本書共設(shè)置21章節(jié)，首先，從光學(xué)薄膜的基本理論出發(fā)（第2章），為大家介紹了設(shè)計(jì)一個(gè)薄膜所必備的基礎(chǔ)知識(shí)。其次，在第3至第7章主要介紹了Macleod軟件的相關(guān)操作，以幫助大家在較短的時(shí)間快速熟悉軟件操作界面。最后，從第9章至21章開始重點(diǎn)闡述軟件中的反演工程、提取光學(xué)常數(shù)、公差分析、薄膜顏色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模塊如何與實(shí)際相結(jié)合，從而使大家將理論知識(shí)與實(shí)際經(jīng)驗(yàn)結(jié)合起來，對(duì)實(shí)際鍍膜提出實(shí)用的建議，以減少設(shè)計(jì)時(shí)間并降低生產(chǎn)成本。 J)H*tz g 薄膜光學(xué)涵蓋范圍很廣，書中并附設(shè)計(jì)光盤和參考文獻(xiàn)，有興趣者可依此深入研究，為精準(zhǔn)起見，在不影響理解的情況下，盡最大可能保留原文意思。譯者希望本書能夠?qū)氖卤∧ば袠I(yè)的人員有所幫助，通過學(xué)習(xí)之后能夠較好地完成其所承擔(dān)的光學(xué)任務(wù)。然而由于個(gè)人能力之局限，書中錯(cuò)誤紕漏之處在所難免，本書若有不周之處，尚請(qǐng)讀者不吝賜教。 -O $!sFmY gBXoEn] 訊技科技股份有限公司 2015年9月3日 F84<=' K
目錄 j:HIcCp
Preface 1 q{L-(!uz7_
內(nèi)容簡(jiǎn)介 2 (L W2S;-
目錄 i "z*?#&?,
1 引言 1 rX?%{M,xFw
2 光學(xué)薄膜基礎(chǔ) 2 c+##!_[9
2.1 一般規(guī)則 2 wF*9%K'E
2.2 正交入射規(guī)則 3 kJCeQK:W
2.3 斜入射規(guī)則 6 =8Z-ORW51
2.4 精確計(jì)算 7 #9HX"< 5
2.5 相干性 8 g6OPYUPg
2.6 參考文獻(xiàn) 10 { m_ y <
3 Essential Macleod的快速預(yù)覽 10 xg'xuz$U
4 Essential Macleod的特點(diǎn) 32 K[Vj+qdyl
4.1 容量和局限性 33 ZT<VDcP{
4.2 程序在哪里？ 33 1%";|
4.3 數(shù)據(jù)文件 35 p?4,YV|#
4.4 設(shè)計(jì)規(guī)則 35 NLt" yD3t
4.5 材料數(shù)據(jù)庫和資料庫 37 `~N jBtQ
4.5.1材料損失 38 Q&w"!N
4.5.1材料數(shù)據(jù)庫和導(dǎo)入材料 39 ,}l|_GGj
4.5.2 材料庫 41 @z`eqG,']
4.5.3導(dǎo)出材料數(shù)據(jù) 43 9&Z+K'$=
4.6 常用單位 43 z0|-OCmL
4.7 插值和外推法 46 #[Rs &$vQm
4.8 材料數(shù)據(jù)的平滑 50 s#X fu\CP
4.9 更多光學(xué)常數(shù)模型 54 _]L]_Bh
4.10 文檔的一般編輯規(guī)則 55 R_ )PbFw
4.11 撤銷和重做 56 V \/Qik{h
4.12 設(shè)計(jì)文檔 57 3XDuo|(
4.10.1 公式 58 7zowvE?#
4.10.2 更多關(guān)于膜層厚度 59 4rpr y@1
4.10.3 沉積密度 59 "1 UpoF'w
4.10.4 平行和楔形介質(zhì) 60 \:2z!\iP`
4.10.5 漸變折射率和散射層 60 @c).&7
4.10.4 性能 61 E
*782>
4.10.5 保存設(shè)計(jì)和性能 64 O.{
4.10.6 默認(rèn)設(shè)計(jì) 64 |*l^<=
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