Mg a@JA" 內(nèi)容簡(jiǎn)介
i!1ho T$ Macleod軟件自帶的用戶手冊(cè)功能全面，其介紹涵蓋了
軟件的方方面面，能夠使用戶快速的了解和熟悉軟件的基本操作。然而，為了順應(yīng)目前
薄膜行業(yè)的需求，急需一本能夠契合軟件設(shè)計(jì)和實(shí)際加工需要的專業(yè)書籍，以能夠幫助薄膜領(lǐng)域的同行高效的完成相關(guān)工作，因此，我們特別推出了《基于Essential Macleod軟件的
光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)技術(shù)》。
} :RT,< 《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)技術(shù)》（原著第二版）是世界著名光學(xué)薄膜專家Macleod先生40多年豐富工作經(jīng)驗(yàn)的總結(jié)，結(jié)合當(dāng)前市場(chǎng)占有率極高的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)與分析軟件Essential Macleod，其內(nèi)容豐富，實(shí)用性強(qiáng)。書中不僅有成熟的光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)、計(jì)算公式和分析方法，還有關(guān)于光學(xué)薄膜技術(shù)討論和解決方案以及全面考慮了薄膜的設(shè)計(jì)、分析、制造等各方面問題，如第8章中40個(gè)經(jīng)典案例分析。本書共設(shè)置21章節(jié)，首先，從光學(xué)薄膜的基本理論出發(fā)（第2章），為大家介紹了設(shè)計(jì)一個(gè)薄膜所必備的基礎(chǔ)知識(shí)。其次，在第3至第7章主要介紹了Macleod軟件的相關(guān)操作，以幫助大家在較短的時(shí)間快速熟悉軟件操作界面。最后，從第9章至21章開始重點(diǎn)闡述軟件中的反演工程、提取光學(xué)常數(shù)、公差分析、薄膜顏色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模塊如何與實(shí)際相結(jié)合，從而使大家將理論知識(shí)與實(shí)際經(jīng)驗(yàn)結(jié)合起來(lái)，對(duì)實(shí)際鍍膜提出實(shí)用的建議，以減少設(shè)計(jì)時(shí)間并降低生產(chǎn)成本。
EZ%w= 薄膜光學(xué)涵蓋范圍很廣，書中并附設(shè)計(jì)光盤和參考文獻(xiàn)，有興趣者可依此深入研究，為精準(zhǔn)起見，在不影響理解的情況下，盡最大可能保留原文意思。譯者希望本書能夠?qū)氖卤∧ば袠I(yè)的人員有所幫助，通過(guò)學(xué)習(xí)之后能夠較好地完成其所承擔(dān)的光學(xué)任務(wù)。然而由于個(gè)人能力之局限，書中錯(cuò)誤紕漏之處在所難免，本書若有不周之處，尚請(qǐng)讀者不吝賜教。
Uxk[O T<TcV9vM 訊技科技股份有限公司
^8';8+$ 2015年9月3日
.0Iun+nUD 目錄
,TKs/-_? Preface 1
AK@`'$ 內(nèi)容簡(jiǎn)介 2
RVgPH<1X@e 目錄 i
I9[ 1U 1 引言 1
68koQgI[^ 2 光學(xué)薄膜基礎(chǔ) 2
c|\ZRBdI 2.1 一般規(guī)則 2
J0ZxhxX35 2.2 正交入射規(guī)則 3
BrlzN='j} 2.3 斜入射規(guī)則 6
M1/M}~ 2.4 精確計(jì)算 7
[5? 4c'Ev 2.5 相干性 8
fr}1_0DDz 2.6 參考文獻(xiàn) 10
T}L^ CU0 3 Essential Macleod的快速預(yù)覽 10
E-yT 4 Essential Macleod的特點(diǎn) 32
`2x H7a- 4.1 容量和局限性 33
E[|s>Xv~ 4.2 程序在哪里？ 33
e-CNQnO~ 4.3 數(shù)據(jù)文件 35
:jt;EzCLg% 4.4 設(shè)計(jì)規(guī)則 35
V>b2b5QAH, 4.5 材料數(shù)據(jù)庫(kù)和
資料庫(kù) 37
T3USNc51 4.5.1材料損失 38
&=F-moDD 4.5.1材料數(shù)據(jù)庫(kù)和導(dǎo)入材料 39
^wx%CdFm'P 4.5.2 材料庫(kù) 41
v` #j 4.5.3導(dǎo)出材料數(shù)據(jù) 43
"3{#d9Gs 4.6 常用單位 43
@u I? 4.7 插值和外推法 46
V=j-Um; 4.8 材料數(shù)據(jù)的平滑 50
||-nm O y 4.9 更多光學(xué)常數(shù)模型 54
S=0"f}Jo. 4.10 文檔的一般編輯規(guī)則 55
mR{CVU 4.11 撤銷和重做 56
@4IW=V 4.12 設(shè)計(jì)文檔 57
YSR mt/ 4.10.1 公式 58
mu6039qy 4.10.2 更多關(guān)于膜層厚度 59
YCa@R!M *O 4.10.3 沉積密度 59
;y>S7n>n: 4.10.4 平行和楔形介質(zhì) 60
,?l~rc 4.10.5 漸變折射率和散射層 60
r\$6'+Si 4.10.4 性能 61
A6Ghj{~ 4.10.5 保存設(shè)計(jì)和性能 64
Nls83 W 4.10.6 默認(rèn)設(shè)計(jì) 64
:J^qj
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