摘要 _H(m4~M  
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高數(shù)值孔徑物鏡廣泛用于光學(xué)光刻、顯微鏡等。因此，在聚焦模擬中考慮光的矢量性質(zhì)是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持這種鏡頭的光線和光場追跡分析。 通過光場追跡，可以清楚地展示不對稱焦斑，這源于矢量效應(yīng)。 照相機探測器和電磁場探測器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，并且可以深入了解矢量效應(yīng)。 GE
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圖片:1-191014101922T4.png

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建模任務(wù) .|$6Pi%!  
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圖片:1-191014101951344.png

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入射平面波 qYc]Y9fi  
波長 2.08 nm !Gsr* F{.  
光斑直徑： 3mm 3 <RkUmR  
沿x方向線偏振 5FcKY_  
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如何進行整個系統(tǒng)的光線追跡分析？
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如何計算包含矢量效應(yīng)的焦點的強度分布？ C
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概覽 t<sg8U.  
•樣品系統(tǒng)預(yù)設(shè)為包含高數(shù)值孔徑物鏡。 v;AMx-_
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•接下來，我們將演示如何按照VirtualLab中推薦的工作流程對樣本系統(tǒng)進行模擬。 W+V#z8K  
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圖片:1-19101410202X92.png

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光線追跡模擬 LGZ5py=xb  
•首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作為模擬引擎。 *`[dC,+`.  
•點擊Go！ {C Qo}@.7  
•獲得3D光線追跡結(jié)果。 cZT;VmC  
@kC>+4s!  

圖片:1-1910141020535H.png

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