在超大規(guī)模集成電路中，為了實現(xiàn)NA=135，波長193nm處分辨率達到 45nm的目標，需要對影響光刻照明均勻性的誤差源進行詳細分析最終確定公差范圍。復眼透鏡是使光束在系統(tǒng)掩膜面上形成矩形均勻照明區(qū)域的關鍵元件。采用CODEV軟件設計了復眼透鏡對引起照明不均勻性的因素進行分析，結合復眼透鏡組的設計方案和實際加工能力，給出X和Y向復眼曲率公差為±10%，后組曲率公差為±5%，前后組間隔公差為±50μｍ，位置精度偏心公差為±1μｍ，裝配精度公差為±3μｍ。制定公差合理、可行，滿足了浸沒式光刻照明系統(tǒng)高均勻性、高能量利用率的要求。 as/PM"
