為什么要在高真空條下鍍膜？ V#iPj'*   
答案 r-Pkfy(  
1、真空狀態(tài)下，膜料的熔點溫度和蒸發(fā)溫度要比在大氣狀態(tài)下低得多。對高熔點的氧化物膜料，在真空狀態(tài)下其熔點要低得多。也就容易到蒸發(fā)溫度而不需太高的能量。 ZzSz%z_sE  
2、真空狀態(tài)下，真空室中空氣極少，膜料分子從蒸發(fā)源到達基片表面的路程中幾乎不與殘留在真空室中的氣體分子碰撞，即分子自由程長。膜料容易沉積在基片上。 RJd(~1  
3、由于真空室中氣體分子少，因而氧分子、硫分子等化學(xué)活潑分子也少，高溫狀態(tài)的膜料分子就不會與之發(fā)生化學(xué)變化，從而保證膜層的膜料純度。 Q\ 0cvmU  
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在鍍膜之前為什么要預(yù)熔材料？ O6
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在鍍膜之前要把材料預(yù)熔透徹，主要是為了材料進行放氣，消除材料中其它成份，保持鍍膜不產(chǎn)生飛濺和保持真空度穩(wěn)定。 Eea*s'  
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鍍膜過程中產(chǎn)生雜質(zhì)的原因和對策？ G|!on<l&  
答案 ]x(!&y:h  
1.電子槍周圍沒有打掃干凈用吸塵器、百潔布等清冼電子槍部件 d>mo~  
2、坩鍋沒有清冼干凈坩鍋邊緣用百潔布、酒精、紗布清冼干凈 EwvoQ$#jv  
3、鍍膜時電子槍光斑不在中間而打到邊緣鍍膜時必須把電子槍光斑打到中間而不能打偏 xCc[#0R{  
4、預(yù)熔材料不透徹把膜料充分地預(yù)熔透徹 d'NIV9P`j]  
5、預(yù)熔膜料電流加得太快加電流要緩慢，不要加的太快 E>D_V@,/  
6、電子槍檔板不干凈每罩要更換電子槍檔板，以及電子槍檔板要清冼干凈 $w`=z<2yo1  
7、膜料污染避免膜料相互污染，以及保存方法 bcE._9@@  
8、膜料本身不純更換其它品種膜料。

請問樓主這些是在知識點是在哪個教材里找到的呀？