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[其它]光學(xué)薄膜產(chǎn)生吸收損耗的主要因素 [復(fù)制鏈接]

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離線wavelab86

助理工程師

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只看樓主倒序閱讀樓主發(fā)表于: 2024-02-04

關(guān)鍵詞：光學(xué)薄膜

氧化物光學(xué)薄膜材料的應(yīng)用波段從紫外到中紅外，其吸收機(jī)制主要考慮電子躍遷吸收、吸收邊緣、雜質(zhì)和缺陷吸收、晶體振動(dòng)吸收。

薄膜的吸收包括源材料雜質(zhì)吸收、材料本征吸收和鍍膜過程引入的吸收。由于目前鍍膜源材料都有很高的純度，源材料雜質(zhì)的吸收相對很小，可以忽略。

又因?yàn)楣鈱W(xué)薄膜應(yīng)用的波段一般是遠(yuǎn)離材料的電子躍遷或晶格振動(dòng)區(qū)，本征吸收相對于鍍膜工藝產(chǎn)生的吸收損耗一般來說要小得多，因此不作重點(diǎn)研究，光學(xué)薄膜產(chǎn)生吸收損耗的主要機(jī)制有以下幾個(gè)因素！


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