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    [技術(shù)]通過(guò)高NA浸沒(méi)顯微鏡進(jìn)行聚焦 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2024-03-27
    摘要 X*6bsYbK-  
    mnswG vY  
    在浸沒(méi)顯微鏡中,我們通常使用蓋玻片將浸沒(méi)液體和樣品分開(kāi)。因此,PSF可能會(huì)因蓋玻片在焦平面處的界面而變形,這在設(shè)計(jì)過(guò)程中通常不能被很好地考慮。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析蓋玻片界面對(duì)PSF的影響,以完全矢量的方式演示并分析蓋玻片后面的焦點(diǎn)變形。 'v iF8?_  
    8V@ /h6-e,  
    E c[-@5x  
    場(chǎng)景 -v#0.3zm  
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    O` R@6KG  
    在VirtualLab Fusion中構(gòu)建系統(tǒng) B B*]" gT  
    Uc]S7F#  
    系統(tǒng)構(gòu)建塊 dBkw.VO W  
    86$9)UI  
    M q;m+{B  
    zLd i  
    組件求解器 Hy~kHBIL  
    ;LM`B^Q]s  
    gB,~Y511  
    l1XA9>n  
    系統(tǒng)構(gòu)建塊 A46z2  
    v {E~R  
    dq[X:3i  
    Kk|uN#m  
    總結(jié) 7xidBVx  
    v?Q&06PMRc  
    mb_*FJB-_  
    nS'hdeoW  
    幾何光學(xué)仿真 CU'$JF  
    通過(guò)光線追跡 <