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    [技術(shù)]通過(guò)高NA浸沒(méi)顯微鏡進(jìn)行聚焦 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2024-03-27
    摘要 VlV X  
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    在浸沒(méi)顯微鏡中,我們通常使用蓋玻片將浸沒(méi)液體和樣品分開(kāi)。因此,PSF可能會(huì)因蓋玻片在焦平面處的界面而變形,這在設(shè)計(jì)過(guò)程中通常不能被很好地考慮。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析蓋玻片界面對(duì)PSF的影響,以完全矢量的方式演示并分析蓋玻片后面的焦點(diǎn)變形。 h`6 (Oo|  
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    場(chǎng)景 Wep^He\:  
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    在VirtualLab Fusion中構(gòu)建系統(tǒng) %M96 m   
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    系統(tǒng)構(gòu)建塊 P&Ke slk  
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    組件求解器 5|rBb[  
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    系統(tǒng)構(gòu)建塊 FxlH;'+Q  
    8c) eaDu  
    UV2W~g  
    nVs@DH  
    總結(jié) /bykIUTKI  
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    @1o X&#  
    幾何光學(xué)仿真 $z_yx `5  
    通過(guò)光線(xiàn)追跡 atZe`0  
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    結(jié)果:光線(xiàn)追跡 i "V.$|,  
    4ior  
    Jh.~]\u  
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    快速物理光學(xué)仿真 &MH8~LSb  
    通過(guò)場(chǎng)追跡 +JI,6)Ry  
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    在蓋玻片的最后一個(gè)界面之前聚焦 L!:NL#M  
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    聚焦在水中蓋玻片的最后一個(gè)界面后方 &-*l{"7p+%  
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    在蓋玻片的最后一個(gè)界面之前聚焦 ~B[e*| d  
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