膜厚儀的測量原理主要基于磁感應(yīng)和電渦流原理。分為手持式和臺(tái)式二種，手持式又有磁感應(yīng)鍍層測厚儀，電渦流鍍層測厚儀，熒光X射線儀鍍層測厚儀。手持式的磁感應(yīng)原理時(shí)，利用從測頭經(jīng)過非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小，來測定覆層厚度。也可以測定與之對應(yīng)的磁阻的大小，來表示其覆層厚度。 5]K2to)>`  
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對于磁感應(yīng)原理的膜厚儀，其測量過程是通過測頭將磁場引入被測物體。當(dāng)測頭靠近被測物體時(shí)，磁場會(huì)經(jīng)過非鐵磁覆層并流入鐵磁基體。覆層的厚度與磁通量的大小和磁阻的變化密切相關(guān)。具體來說，覆層越厚，磁阻越大，磁通量越小。通過測量磁通量或磁阻的大小，膜厚儀能夠準(zhǔn)確地確定覆層的厚度。這種測量方式主要適用于鋼鐵等導(dǎo)磁基體上的非導(dǎo)磁覆層厚度的測量，如油漆層、瓷、搪瓷防護(hù)層等。 T\"-q4+=C  
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而電渦流原理的膜厚儀則是利用高頻交流信號在測頭線圈中產(chǎn)生電磁場。當(dāng)測頭靠近導(dǎo)電基體時(shí)，會(huì)在其中形成渦流。渦流的大小與測頭離導(dǎo)電基體的距離成反比，即距離越近，渦流越大，反射阻抗也越大。這種反饋?zhàn)饔昧靠梢杂脕肀碚鳒y頭與導(dǎo)電基體之間距離的大小，即導(dǎo)電基體上非導(dǎo)電覆層的厚度。因此，通過測量反射阻抗或渦流的大小，電渦流膜厚儀能夠?qū)崿F(xiàn)對非鐵磁金屬基材上的覆層厚度的測量。 &r2\P6J  
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總的來說，膜厚儀的測量原理基于磁感應(yīng)和電渦流原理，通過測量磁通量、磁阻、渦流或反射阻抗等參數(shù)，實(shí)現(xiàn)對不同基材上覆層厚度的精確測量。這些原理各有特點(diǎn)和適用范圍，在實(shí)際應(yīng)用中可以根據(jù)被測物體的材料和結(jié)構(gòu)特點(diǎn)選擇合適的測量原理和方法。