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發(fā)表于: 2024-07-24
一.光刻技術(shù)簡介
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光刻是在集成電路制造過程中非常重要的步驟,是制造
芯片
的核心設(shè)備。
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芯片的復(fù)雜細(xì)微三維結(jié)構(gòu)就是通過光刻機(jī)把掩膜的圖形轉(zhuǎn)印到光刻膠上,再通過刻蝕工藝轉(zhuǎn)移到硅片上。
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圖片:1.jpg
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二.光刻
鏡頭
的概述
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整個集成電路制造過程中,光刻的步驟需要重復(fù)幾十次。
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