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[原創(chuàng)]SYNOPSYS 光學(xué)設(shè)計軟件課程七十七：紫外光刻鏡頭設(shè)計 [復(fù)制鏈接]

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只看樓主倒序閱讀樓主發(fā)表于: 2024-07-24

一.光刻技術(shù)簡介

光刻是在集成電路制造過程中非常重要的步驟，是制造芯片的核心設(shè)備。
芯片的復(fù)雜細(xì)微三維結(jié)構(gòu)就是通過光刻機把掩膜的圖形轉(zhuǎn)印到光刻膠上，再通過刻蝕工藝轉(zhuǎn)移到硅片上。

二.光刻鏡頭的概述

整個集成電路制造過程中，光刻的步驟需要重復(fù)幾十次。
光刻技術(shù)水平限制了集成電路性能提升和關(guān)鍵尺寸的進(jìn)一步減小。
光刻工藝的核心是對準(zhǔn)和曝光，都是通過光刻鏡頭實現(xiàn)的。