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摘要 9\|n2$H: I#]$H#}Av 高NA物鏡廣泛用于光學(xué)光刻，顯微鏡等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考慮光的矢量性質(zhì)。 使用VirtualLab對(duì)這種鏡頭進(jìn)行光線追跡和場(chǎng)追跡分析非常方便。通過(guò)場(chǎng)追跡，可以清楚地展示不對(duì)稱焦斑，這源于矢量效應(yīng)。相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，可以讓用戶深入了解矢量效應(yīng)。 6tE<`"P! `z =I}6){  bIP'(B#1K ;plzJ6> 建模任務(wù) [S}o[v\ ;btH[a iV  v;9VX
概觀 s ^/<6kwO WCbv5)uTUs  3zO'=g wJ 光線追跡仿真 0@9.h{s@ {I !sXj •首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作為仿真引擎。 M~/%V NX y s5b34JN
•點(diǎn)擊Go！ X^PR];V:$
•獲得3D光線追跡結(jié)果。 He4sP` &I
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b@OL !?JP 光線追跡仿真 }ST9&w i~ (9N75uCa H4HWr6
•然后，選擇“光線追跡”（Ray Tracing）作為仿真引擎。 e ,_b
•單擊Go！ hi>sD U< x
•結(jié)果，獲得點(diǎn)列圖（2D光線追跡結(jié)果）。 Z=sC
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