近日，中科院上海光機所先進激光與光電功能材料部激光晶體研究中心與浙江無限鉆科技發(fā)展有限公司合作，在提升金剛石晶體的光學(xué)性能研究方面取得新進展，相關(guān)研究成果以“Enhanced Optical Properties of CVD Diamond through HPHT Annealing”為題發(fā)表于Crystal Growth & Design。

金剛石具有極高的熱導(dǎo)率和極佳的光學(xué)性能，以金剛石為增益介質(zhì)的激光器在高功率、高亮度、光束合成和小型化等方面具有顯著的優(yōu)勢。然而，商用金剛石較差的光學(xué)性能，特別是較差的光學(xué)均勻性極大地限制了其在激光領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用。

針對上述問題，研究團隊提出了通過高溫高壓退火提升金剛石光學(xué)均勻性的新方案，研究了不同退火工藝對金剛石光學(xué)性能的影響。實驗結(jié)果表明，高溫高壓退火能夠促使金剛石中的缺陷形成團簇，進而有效提升晶體的光學(xué)均勻性，退火溫度和降溫速率對這一過程具有顯著影響。此外，退火后金剛石中 C-H 鍵、NV 色心和 SiV 色心的含量顯著降低，晶體的透過率達到70%以上（@1200 nm）。該項研究對光學(xué)級金剛石晶體的高效制備具有參考價值，并有望推動金剛石激光技術(shù)的發(fā)展。

圖片:W020240823383406890402_ORIGIN.png

圖1.退火前后金剛石的應(yīng)力雙折射、可見吸收光譜（左）和紅外光譜（右）

相關(guān)工作得到了國家自然科學(xué)基金的支持。

相關(guān)鏈接：https://pubs.acs.org/doi/full/10.1021/acs.cgd.4c00634