我們有臺鍍膜機H4電子槍充氧量用的壓控，設計充到1.0-2，但每一鍋都不太穩(wěn)定，有時候充到7.5-3，有時候充到8.3-3，也有能充到1.0-2的，H4是手動熔的，一般就鍍普通AR,導致分光變來變?nèi)ィ�穩(wěn)定不住 ，請教大佬們，這種情況是藥里面雜質(zhì)多還是壓控控制系統(tǒng)有問題？應該怎么排除？

坐等分析

控制軟件PID參數(shù)調(diào)整一下，一般是可以恒壓的，當然，如果放氣量很不穩(wěn)定也可能導致控制失敗 D=-}&w_T"  

1.手動融料重復性不好 ,-#MEr  
2鍍膜機真空度是否有漏氣現(xiàn)象 pbzFzLal  
3.充氧控制改固定參數(shù) *p}mn
#ru-  
4.真空計污染導致真空不準確

yzhuang:控制軟件PID參數(shù)調(diào)整一下，一般是可以恒壓的，當然，如果放氣量很不穩(wěn)定也可能導致控制失敗 <0CjEsAB]  
 (2024-09-20 09:09)  cJo%j -AM  

OIblBQ!  
感謝回復，我們這個只能設定數(shù)值，PID調(diào)不了

度魔銀:1.手動融料重復性不好 Igo`\JY  
2鍍膜機真空度是否有漏氣現(xiàn)象 4&*lpl*N  
3.充氧控制改固定參數(shù) f.g!~wGD  
4.真空計污染導致真空不準確 (2024-09-20 09:54)  6qZQ20h  

3p#UEH3  
感謝回復，我們先定量充氧試試

真空計和沖氧口的位置和距離很重要，如果壓力周期性波動的話，就調(diào)整真空計位置。 Zr}>>aIJ]k  
但是現(xiàn)在看來好像是沖氧的壓控問題。 ?wtKi#k'v#  
真空計一般是用電壓信號，要保證壓控儀和真空計用的電壓定義是一樣的。 48p3m)5  
另外要排除信號干擾，如果真空信號受干擾了，那么肯定無法穩(wěn)定的進行控制。 >\JPX  
最后一個應該就是壓控儀本身的問題，比如PID參數(shù)過大導致調(diào)節(jié)緩慢。 Rxy|Ag/I;V  

ouyuu:真空計和沖氧口的位置和距離很重要，如果壓力周期性波動的話，就調(diào)整真空計位置。 6X ]I`e  
但是現(xiàn)在看來好像是沖氧的壓控問題。 R1*&rjB  
真空計一般是用電壓信號，要保證壓控儀和真空計用的電壓定義是一樣的。 li3X}
  
另外要排除信號干擾，如果真空信號受干擾了，那么肯定無法穩(wěn)定的進行控制。 41R~.?  
最后一個應 .. (2024-10-22 22:50)  ,,FhE  

ycN!N  
感謝大佬解惑，充氧口是固定的，真空計玻璃規(guī)的位置我們每次換沒注意位置，才知道這個也會影響真空數(shù)據(jù)，我們現(xiàn)在定量充氧40，分光比原來穩(wěn)定了很多，但每層H4充氧后的真空度都有差異

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