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hyperlith光刻軟件 嚴(yán)格的 OPC 和源優(yōu)化 嵌入式多層鏡面缺陷任意缺陷幾何形狀 可檢測性 印刷適性 離軸陰影效應(yīng)、HV 偏差（包括非常量散射系數(shù)）吸收器堆棧分析（EM-Stack）吸收器輪廓（側(cè)壁和拐角圓化吸收體缺陷EUV 的 OPC（小面積）多層鏡面結(jié)構(gòu) (PSM) 雙重圖案 光刻蝕刻 光刻蝕刻 光刻凍結(jié) 光刻蝕刻 |
hyperlith光刻軟件嚴(yán)格的 OPC 和源優(yōu)化 嵌入式多層鏡面缺陷任意缺陷幾何形狀 可檢測性 印刷適性 離軸陰影效應(yīng)、HV 偏差（包括非常量散射系數(shù)）吸收器堆棧分析（EM-Stack）吸收器輪廓（側(cè)壁和拐角圓化吸收體缺陷EUV 的 OPC（小面積）多層鏡面結(jié)構(gòu) (PSM) 雙重圖案 光刻蝕刻 光刻蝕刻 光刻凍結(jié) 光刻蝕刻 |