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    [技術(shù)]JCMsuite應(yīng)用:太陽能電池的抗反射惠更斯超表面模擬 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 正序閱讀 樓主  發(fā)表于: 03-05
    人們構(gòu)想大量不同的策略來替代隨機(jī)紋理,用來改善太陽能電池中的光耦合效率。雖然對納米光子系統(tǒng)的理解不斷深入,但由于缺乏可擴(kuò)展性,只有少數(shù)提出的設(shè)計(jì)在工業(yè)被上接受。在本應(yīng)用中,一種定制的無序排列的高折射率介質(zhì)亞微米量級的二氧化鈦(TiO2)圓盤作為標(biāo)準(zhǔn)異質(zhì)結(jié)硅太陽能電池的抗反射惠更斯超表面在試驗(yàn)中進(jìn)行開發(fā)。無序陣列使用基于膠體自組裝的可伸縮自下而上的技術(shù)制造,該技術(shù)幾乎不考慮設(shè)備的材料或表面形態(tài)。我們觀察到,與采用優(yōu)化的平坦抗反射ITO層的參考電池相比,反射率的寬頻帶降低導(dǎo)致短路電流相對改善5.1%。我們討論了在保持螺旋度的框架下超表面的光學(xué)性能,這可以通過調(diào)整其尺寸在特定波長下實(shí)現(xiàn)對一個(gè)孤立圓盤沿對稱軸的照明 k,T_e6(  
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    本工作中所考慮的太陽能電池結(jié)構(gòu)示意圖。Rdiff和Rspec表示漫反射和鏡面反射部分。該圓盤是在異質(zhì)結(jié)技術(shù)(HJT)后發(fā)射極太陽能電池上沉積的,其表面是用非晶硅(aSi)固有層和n+摻雜層鈍化的未拋光的平面硅片ITO薄膜既是減反射涂層(ARC),也是正面觸點(diǎn)。
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    (左圖,中間圖)不同放大倍數(shù)的太陽能電池頂部圓盤的電子顯微圖。左邊的圖突出了單個(gè)圓盤的特性,而中間的SEM圖突出了樣本的一致性。(右圖)39 × 39 mm涂層太陽能電池的照片。 ;J'OakeVO  
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    通過Born近似計(jì)算的圓盤圖案的反射率和單個(gè)圓盤的有限元模擬(本文討論的數(shù)值模擬是基于有限元方法(FEM)的軟件JCMsuite)。測量圓盤涂層樣品和調(diào)整平板的反射率ARC (50 nm厚度的ITO)的圓盤結(jié)構(gòu)。一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)的平面ARC參考(80 nm厚度的ITO)作為比較。
     
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