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光刻光學(xué)碼盤、碼尺、分劃板、標(biāo)尺、光柵、鍍盤、鑒別率板等 本公司美國(guó)光刻圖形發(fā)生器利用光刻正膠或負(fù)膠，在感光板上制作用于加工集成電路的高精度、高品質(zhì)掩膜版，也可根據(jù)需求制作優(yōu)質(zhì)的光學(xué)碼盤、碼尺、分劃板、標(biāo)尺、光柵、鍍盤、鑒別率板等精密光學(xué)零件的母板和任意圖形。 光刻機(jī)性能參數(shù)： 可加工最小線寬： 直接光刻 2.5 微米；重復(fù)步進(jìn) 1 微米 最大加工范圍： 152毫米 × 220毫米 |
