光柵是光學工程師使用的最基本的工具。為了設計和分析這類組件，快速物理光學建模和設計軟件VirtualLab Fusion為用戶提供了許多有用的工具。其中包括參數(shù)優(yōu)化，以輕松優(yōu)化系統(tǒng)，以及參數(shù)運行，它允許您執(zhí)行參數(shù)掃描，以研究這些參數(shù)對設置的總體效果的影響。此外，還可以用于詳細研究具體制造過程中的偏差引入的影響。不同的求解器也可以供您使用來模擬場與光柵的相互作用，具有不同的假設和相應的近似水平。這些方法的范圍從嚴格的傅里葉模態(tài)法（FMM）到適用于具有淺浮雕大型結構的薄元近似法（TEA）。 薄元素近似法（TEA）對比傅里葉模態(tài)法（FMM）進行光柵建模 研究了兩種常用但原理不同的分析光柵衍射效率的算法： TEA和FMM（也稱為RCWA）。比較了不同周期的兩種類型的光柵（正弦和閃耀）結果。 以傅里葉模態(tài)法（FMM）作為參數(shù)優(yōu)化的核心，設計了一個傾斜光柵來實現(xiàn)高衍射效率將光耦合到光波導中的目的。此外，還分析了包括圓角邊緣在內的制造公差。 | 
