近日，國家知識產(chǎn)權(quán)局信息顯示，飛測思凱浦（上海）半導(dǎo)體科技有限公司申請一項名為“一種光學(xué)檢測裝置”的專利，公開號CN120028345A，申請日期為2025年01月。

專利摘要顯示，本申請?zhí)峁┑墓鈱W(xué)檢測裝置，檢焦光束經(jīng)第一掩膜進入反射件，反射件的周圍對入射的檢焦光束進行反射，再經(jīng)物鏡成像在待檢測晶圓表面，待檢測晶圓將像進行反射再經(jīng)物鏡、反射件進入分束鏡，經(jīng)所述分束鏡反射的像由所述第一探測單元獲取，經(jīng)分束鏡透射的像進入所述第二掩膜，被第二掩膜透射的光束被第二探測單元獲取；照明光束透過反射件的鏤空位置以生成中間像，中間像經(jīng)過物鏡成像在待檢測晶圓表面，再經(jīng)所述物鏡由所述成像單元獲取，本申請通過在光路中使用特殊形狀或位置的反射件，使得照明光束和檢焦光束為同一波段，由于成像光束與聚焦光束都會經(jīng)過物鏡，即物鏡僅使用一個波段，且對其工作距離無要求，降低了物鏡設(shè)計、加工難度與制造成本。