傳統(tǒng)意義上，Essential Macleod的設(shè)計是由一系列完全干涉的
薄膜組成，并只在基板的一側(cè)形成膜層。而Stack是由一組膜層和基板組成，基板的兩個面是平行的，以便在相同材料中傳播角度相同。Stack中，膜層被介質(zhì)（或基底）分開，介質(zhì)（或基底）由其材料和厚度定義。入射介質(zhì)和出射介質(zhì)是半無限的，但其它介質(zhì)的厚度都是有限的。另一方面，膜層是繼續(xù)支持完全一致性，即完全干涉。這通常是真實膜層和基底的情況，即考慮基板后表面反射或者鍍膜的情況。
y&L Lx[8 ^ p)Fi{%bc 為什么介質(zhì)或基板不支持干涉？這是一個
系統(tǒng)問題。基板的厚度通常以毫米而不是
納米來測量，因此路徑差異非常長。入射角、
波長和厚度的微小變化，雖然對路徑差異的比例效應(yīng)很小，但對它們所代表的相位變化有很大影響，因為許多波長都涉及到這些路徑差異。當(dāng)各種
光線組合在一起時，干涉條紋會被沖掉，只留下總的輻照度。在單個設(shè)計文檔時，我們總是假設(shè)使用完全準(zhǔn)直的單色光，其中入射角和波長變化的相應(yīng)影響通常很小，可以忽略不計，從而在設(shè)計中存在完全相干效應(yīng)。
w JF(&P 圖1.基板足夠厚時，無需考慮干涉效應(yīng)。如果考慮基板的干涉，要將基板看成一層薄膜，而整個系統(tǒng)看作一個膜系
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