摘要：為了探究原子光刻中基片與會(huì)聚激光場(chǎng)間距對(duì)沉積納米光柵質(zhì)量的影響，我們基于VirtualLab Fusion平臺(tái)實(shí)現(xiàn)了基片定位控制方案中光學(xué)系統(tǒng)的建模和仿真。結(jié)果顯示：基片在切割會(huì)聚激光時(shí)將產(chǎn)生直邊衍射圖像，其輪廓形狀和最大值都會(huì)隨著基片切割激光截面區(qū)域大小的變化而變化：虛擬光電探測(cè)器上所得到的反射光強(qiáng)度值將隨著基片－會(huì)聚激光間距的變化給出了倒置的高斯線型，其最低點(diǎn)出現(xiàn)在基片中心和會(huì)聚激光場(chǎng)軸線重合時(shí)的位置上。當(dāng)會(huì)聚激光場(chǎng)截面恰好被基片阻擋一半時(shí)，探測(cè)處的強(qiáng)度值降至45.5%。這種光強(qiáng)隨基片位置的變化情況為精確地定位基片位置提供了理論支撐。

關(guān)鍵詞：原子光刻；鉻原子；會(huì)聚激光；VirtualLab Fusion平臺(tái)納米科技的快速發(fā)展，迫切需要相關(guān)檢測(cè)儀器具有量值溯源的特性，以保證加工對(duì)象的精度和成品率．現(xiàn)在開發(fā)出來(lái)的計(jì)量型納米測(cè)量?jī)x器有如下原因而不能滿足現(xiàn)場(chǎng)或者一般實(shí)驗(yàn)室快速 溯源檢測(cè)的要求。１）設(shè)計(jì)復(fù)雜，價(jià)格昂貴，工作環(huán)境要求苛刻；2）只能建立在國(guó)家級(jí)計(jì)量院所