摘要 o[[r_v_d  
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光學(xué)各向異性，也被稱為雙折射，是產(chǎn)生各種光學(xué)現(xiàn)象及其相關(guān)應(yīng)用的原因。VirtualLab Fusion提供了一種快速和嚴(yán)格的場(chǎng)跟蹤分析算法，該算法應(yīng)用于S矩陣求解器，并工作在k域。在本應(yīng)用案例中，介紹了各向異性介質(zhì)的基本配置。 arQ%  
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目錄中的各向異性介質(zhì) '
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定義各向異性介質(zhì) LsQ8sFP_"  
雙軸晶體由三個(gè)方向的主折射率定義； y2$;t'  
單軸晶體由o折射率和e折射率定義; q[OTaSQ~u^  
一般各向異性介質(zhì)可以通過(guò)直接定義介電常數(shù)張量建立。 V<V\0n!0  
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各向異性介質(zhì)預(yù)覽 ^%%5  
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預(yù)配置晶體 fTHun?Vn  
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VitualLab Fusion提供了一系列預(yù)設(shè)的晶體介質(zhì)，可以從介質(zhì)(Media)目錄中訪問(wèn)。用戶還可以在目錄中導(dǎo)入和導(dǎo)出自定義的介質(zhì)。 %;\G@q_p{  
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各向異性涂層 42>m,fb2[  
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各向異性涂層可以在涂層(coating)目錄中找到，并應(yīng)用于VirtualLab Fusion的所有光學(xué)表面。 1:x
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