摘要 U2?gODh'  
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在VirtualLab Fusion中，當(dāng)研究制造偏差對(duì)優(yōu)化系統(tǒng)的影響時(shí)，可以使用隨機(jī)變化的參數(shù)運(yùn)行。根據(jù)制造工藝的不同，不同參數(shù)的偏差可能遵循不同的隨機(jī)分布規(guī)律。雖然參數(shù)運(yùn)行的默認(rèn)隨機(jī)模式假定均勻分布，但在此用例中，我們想展示如何使用可編程參數(shù)運(yùn)行對(duì)公差中涉及的每個(gè)參數(shù)應(yīng)用不同的隨機(jī)分布。作為說(shuō)明，我們選擇了鋸齒光柵的例子，為此我們研究了負(fù)一傳輸級(jí)次的最低效率。 \+A<s,x  
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任務(wù)描述 ZEJadR  
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VirtualLab Fusion中的系統(tǒng) – 元件 PFw"ICs  
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VirtualLab Fusion中的系統(tǒng) – 分析器 .NC}TFN|  
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可編程參數(shù)運(yùn)行 c!T{|'?  
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可編程參數(shù)運(yùn)行選項(xiàng) o>tT!8rH  
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分布類(lèi)型 Y'
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在均勻分布的情況下，點(diǎn)數(shù)將在允許的范圍內(nèi)均勻分布。正態(tài)分布和截?cái)嗾龖B(tài)分布都假設(shè)一個(gè)點(diǎn)被取的概率為高斯分布。標(biāo)準(zhǔn)正態(tài)分布和截?cái)嗾龖B(tài)分布之間的區(qū)別在于，在截?cái)喾植嫉那闆r下，不會(huì)取參數(shù)范圍外的值，而是在范圍內(nèi)生成一個(gè)新數(shù)。 Q[KR,k  
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