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- 注冊(cè)時(shí)間2020-06-19
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pJr c\`D 內(nèi)容簡介 @[#U_T- I Macleod軟件自帶的用戶手冊(cè)功能全面，其介紹涵蓋了軟件的方方面面，能夠使用戶快速的了解和熟悉軟件的基本操作。然而，為了順應(yīng)目前薄膜行業(yè)的需求，急需一本能夠契合軟件設(shè)計(jì)和實(shí)際加工需要的專業(yè)書籍，以能夠幫助薄膜領(lǐng)域的同行高效的完成相關(guān)工作，因此，我們特別推出了《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)技術(shù)》。 0,)B~|+ 《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)技術(shù)》（原著第二版）是世界著名光學(xué)薄膜專家Macleod先生40多年豐富工作經(jīng)驗(yàn)的總結(jié)，結(jié)合當(dāng)前市場(chǎng)占有率極高的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)與分析軟件Essential Macleod，其內(nèi)容豐富，實(shí)用性強(qiáng)。書中不僅有成熟的光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)、計(jì)算公式和分析方法，還有關(guān)于光學(xué)薄膜技術(shù)討論和解決方案以及全面考慮了薄膜的設(shè)計(jì)、分析、制造等各方面問題，如第8章中40個(gè)經(jīng)典案例分析。本書共設(shè)置21章節(jié)，首先，從光學(xué)薄膜的基本理論出發(fā)（第2章），為大家介紹了設(shè)計(jì)一個(gè)薄膜所必備的基礎(chǔ)知識(shí)。其次，在第3至第7章主要介紹了Macleod軟件的相關(guān)操作，以幫助大家在較短的時(shí)間快速熟悉軟件操作界面。最后，從第9章至21章開始重點(diǎn)闡述軟件中的反演工程、提取光學(xué)常數(shù)、公差分析、薄膜顏色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模塊如何與實(shí)際相結(jié)合，從而使大家將理論知識(shí)與實(shí)際經(jīng)驗(yàn)結(jié)合起來，對(duì)實(shí)際鍍膜提出實(shí)用的建議，以減少設(shè)計(jì)時(shí)間并降低生產(chǎn)成本。 .F:qJ6E 薄膜光學(xué)涵蓋范圍很廣，書中并附設(shè)計(jì)光盤和參考文獻(xiàn)，有興趣者可依此深入研究，為精準(zhǔn)起見，在不影響理解的情況下，盡最大可能保留原文意思。譯者希望本書能夠?qū)氖卤∧ば袠I(yè)的人員有所幫助，通過學(xué)習(xí)之后能夠較好地完成其所承擔(dān)的光學(xué)任務(wù)。然而由于個(gè)人能力之局限，書中錯(cuò)誤紕漏之處在所難免，本書若有不周之處，尚請(qǐng)讀者不吝賜教。 -}`ES] L&=j O0_ 訊技科技股份有限公司 2015年9月3日 DeE -M " 目錄 TC[_Ip& Preface 1 `2c>M \c4U 內(nèi)容簡介 2 }hrLM[ 目錄 i 1|bu 0d\] 1 引言 1 06"p ^# 2 光學(xué)薄膜基礎(chǔ) 2 k@JDG]R<{ 2.1 一般規(guī)則 2 qg#TE-Y` 2.2 正交入射規(guī)則 3 }M'h 5x 2.3 斜入射規(guī)則 6 5W"n n 2.4 精確計(jì)算 7 b }S}OW2 2.5 相干性 8 .yE!,^j.gB 2.6 參考文獻(xiàn) 10 j2# nCU54Z 3 Essential Macleod的快速預(yù)覽 10 [/hS5TG|7 4 Essential Macleod的特點(diǎn) 32 u
+q}9 4.1 容量和局限性 33 NsJ t=~ 4.2 程序在哪里？ 33 ]y3V ^W# 4.3 數(shù)據(jù)文件 35 +N5#EpW 4.4 設(shè)計(jì)規(guī)則 35 3p{N7/z( 4.5 材料數(shù)據(jù)庫和資料庫 37 Zs<} { `- 4.5.1材料損失 38 g66=3c9</6 4.5.1材料數(shù)據(jù)庫和導(dǎo)入材料 39 $3S6{" 4.5.2 材料庫 41 xy>wA 4.5.3導(dǎo)出材料數(shù)據(jù) 43 s|Ls 4.6 常用單位 43 qp 4.XL 4.7 插值和外推法 46 cE> K:3n 4.8 材料數(shù)據(jù)的平滑 50 ]2(vO0~ 4.9 更多光學(xué)常數(shù)模型 54 S> O fUrt 4.10 文檔的一般編輯規(guī)則 55 K]' 84!l 4.11 撤銷和重做 56 qb(#{Sw0 4.12 設(shè)計(jì)文檔 57 *#1&IJ PI 4.10.1 公式 58 w H= 4.10.2 更多關(guān)于膜層厚度 59 vzK* 1R5 4.10.3 沉積密度 59 jT"P$0sJAd 4.10.4 平行和楔形介質(zhì) 60 ;ZX P*M9 4.10.5 漸變折射率和散射層 60 ^I3cU'X 4.10.4 性能 61
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