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    [技術(shù)]通過高NA浸沒顯微鏡進(jìn)行聚焦 [復(fù)制鏈接]

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    摘要 xQDQgvwa  
    Q8AAu&te7  
    在浸沒顯微鏡中,我們通常使用蓋玻片將浸沒液體和樣品分開。因此,PSF可能會(huì)因蓋玻片在焦平面處的界面而變形,這在設(shè)計(jì)過程中通常不能被很好地考慮。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析蓋玻片界面對PSF的影響,以完全矢量的方式演示并分析蓋玻片后面的焦點(diǎn)變形。 $C5*@`GM$  
    V`#2jDz  
    fV5$[CL1  
    場景 sH;_U)ssH  
    }.E^_`  
    z8awND  
    j|wN7@Zc  
    在VirtualLab Fusion中構(gòu)建系統(tǒng) rvy%8%e?  
    {9}CU~R  
    系統(tǒng)構(gòu)建塊
    n`&D_AbQ  
    ]#^v754X^T  
    8$A0q%n  
    6Q [  
    組件求解器 ]q{_i   
    [V:~j1{3  
    !|xB>d q?  
    'xj5R=V  
    A2:}bb~H  
     *0^~@U  
    系統(tǒng)構(gòu)建塊 'WE"$1  
    :R=6Ku>  
    :M6v<Kg{;  
    C'|9nK$%  
    總結(jié) X:g5;NT  
    /CNsGx%%  
    s. A}ydtt  
    5kTs7zJ^  
    幾何光學(xué)仿真 A8vd@0  
    通過光線追跡 S\8v)|Pr  
    k Alx m{  
    結(jié)果:光線追跡 Z>g>OPu  
    w=WF$)ZU  
    !Z:XSF[T  
    "nu]3zcd  
    快速物理光學(xué)仿真 \Dq'~ d  
    通過場追跡 +`k30-<P  
    * &:_Vgu  
    在蓋玻片的最后一個(gè)界面之前聚焦 )8W! |  
    8(\}\4G_  
    GT<oYrjU  
    XlU\D}zS  
    聚焦在水中蓋玻片的最后一個(gè)界面后方 lxL.ztL  
    F5 ]<=i  
    .yZLC%}  
    fF0i^E<  
    在蓋玻片的最后一個(gè)界面之前聚焦 [A84R04_%  
    ?<!q F:r:  
    -t|/g5.w_  
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    聚焦在水中蓋玻片的最后一個(gè)界面后方 mEd2f^R  
    T\}U{9ELL  
    (V6bX]<  
    zx}+Q B0  
    總結(jié) 5U47 5&  
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