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摘要 9#iDrZW
Mt YP3: 在傳統(tǒng)的Talbot光刻中，在光敏層中僅使用一個圖像，但是可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的兩個圖像。在此示例中，遵循I.-H. Lee等人的工作，通過傅立葉模態(tài)法（FMM，也稱為RCWA）在VirtualLab Fusion中對具有一層圓錐體的相位掩模進行了建模。探測得到不同的Talbot像，柱狀圖位于主像面上，孔狀圖位于次像面上。 ]~qN <x
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 q~^:S~q fiZv+R<x1 建模任務 6fV)8,F3 r/4]b ]n
 GBphab| 結構和材料參數(shù)來自I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015) N/%#GfXx
z;/'OJ[. 某一位置的Talbot圖樣 NZTYT \7
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 d>`(.qvxR ,>UmKrYo 沿Z軸的強度 Q*C4
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 nwo!A3w: f`,Hr?H VirtualLab Fusion的工作流程 \!QF9dP4 D%idlL2%J 構建光柵結構 N ACY;XQ% - 用特殊介質(zhì)構造光柵結構 [用例] 5tU"|10m3 - 超穎光柵構建 – 示例討論 [用例] \Ep/'Tj& O|RO
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